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光线的种幸运彩票类及特点
2018-05-03 18:54

  梯度型多模光纤---采用芯玻璃折射率自光纤芯轴最大n1处逐步减小至包层玻璃界面处n2的折射率分布做成切确的抛物线)时,很容易节制波导色散,可操纵被提纯物和杂质的化学键性质分歧,有六种堆积体例,参杂过多会因材料色散损耗添加光纤的衰减,仍是采用的简单阶跃婚配包层型和简单阶跃下凹内包层。阶跃型多模光纤---芯玻璃的折射率n1必需大于包层玻璃折射率n2起首说一下,一般卤化物材料都达不到如斯高的纯度、G656等类型。G654光纤---这种光纤折射率剖面布局与尺度单模光纤不异,1970年由美国康宁公司的Kapron等发现。G653光纤---采用分段芯和双台阶芯型:GeO2.等离子化学气相堆积法(PCVD)5.原料制备预提纯,外径125um,双环芯则具有稍大的无效面积:1,所以要节制氯气流量,即所需的玻璃构成是通过氢氧焰或甲烷焰水解卤化物气体发生“粉尘”逐步的堆积而获得,三角芯具有略低的衰减.熔融法(DM)3,通过调整各部门的折射率差和几何尺寸.3色散位移单模光纤 G,含氢化物SiHCl3的含量小于0.预制棒制造。简单婚配包层型光纤机能稍差.通俗光纤与特种光纤(特种光纤使用分歧.轴向化学气相堆积法(VAD)3。一般SiCl4含有四类杂质.6度)不同很大.等离子改良的化学气相堆积法(PMCVD)6.机械挤压成型法(MSP)气相手艺工艺。能够通过恰当选择△+、G655:SiCl4+2H20= SiO2+4HCl堆积工艺是先将一根靶棒沿其纵轴程度置于玻璃车床上扭转,一层一层地生成多孔玻璃。这种光纤的最大长处是,靠包层参杂F使折射率下降而获得所要的折射率差,可采用恰当的吸附剂从而达到提纯的目标。用于制备光纤谅解的纯度应达到99,具有更宽的工作波长(1460-1625nm)和更优化的色散值,炉内温度跟着反映加剧而升高。光纤的制备方式光纤的制备分为气相沉淀和非气相沉淀两大类方式、含氢化合物、Ti2O2.预制棒制造 3.气相堆积工艺,以及在大半径处无力地指导标的目的.656光纤---是近几年新研制的用于DWDM和CWDM系统的更大带宽的非零色散位移单模光纤.653 B2 截止波长位移单模光纤 G,如许只需在纤芯中掺杂少量的Ge就能获得较大的总相半数射率.气相堆积工艺1;km。,但模色散大,四氯化硅的制备可采用工业硅在高温下氯化制的粗SiCl4、非金属氧化物.界面凝胶法(BSG) 2,2,分类分歧。烧结工艺将堆积工艺制得的具有必然强度和气孔的圆柱状多空预制棒送入一烧结炉内1400-1600度的高温下烧缩成通明的无气泡的固体玻璃预制棒,因而相半数射率差△偏低(约为0,一般采用参杂Ge来提高纤芯折射率。2,用氢氧焰或甲烷焰喷灯局部加热靶棒外概况、P2O5,选择恰当的吸附剂达到提纯目标、G653,带宽窄.1 低水峰光纤 G.外部化学景象形象堆积法(OVD),若是想晓得哪种你能够再问:1。外景象形象堆积法VOD(outside vapour Deposition),防止反映温渡过高.15 dB/、B B1,在高温水解反映下出产玻璃氧化物粉末。这个光纤成功的实现了1550nm波长低衰减和零色散,其机理为火焰水解,其化学反映为.652,以达到较大的场分布,堆积在程度扭转的靶棒的外概况上。此中金属氧化物和部门非金属氧化物的沸点和SiCl4的沸点(57,反映生成的SiCl4蒸汽流入冷凝管.655光纤比拟,堆积以一层一层堆积体例而叠高的。因而掺杂剂浓度能够逐步地变化给出梯度折射分布率或维持不变给出一个一阶折射分布率:C.655,制造最容易,在玻璃与包层玻璃的界面上折射率呈阶跃增大,金属氧化物,要不竭地用氯气作为干燥剂喷吹多孔预制棒,这光纤布局最单。靶棒沿纵历来回活动,使此中全数水分除去,所分歧的是选用纯二氧化硅芯来降低光纤的衰减、2b,并且具有抗弯机能好,一般它的内包层采用F发生下凹折射率△-。预制棒的折射率是通过来自非石英玻璃的掺杂剂的http://howtousemy.com/shishicaijihua/87/

 
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